失效分析 趙工 半導體工程師 2023-06-19 08:54 發表於北京

6月17日消息，在半導體工藝進入7nm節點之後，EUV光刻機是少不瞭的關鍵設備，目前隻有ASML能制造，單臺售價10億人民幣，今年底還會迎來下一代EUV光刻機，價格也會大漲。

光刻機的分辨率越高，越有利於制造更小的晶體管，而分辨率也跟光刻機物鏡的NA數值孔徑有直接關系，目前的EUV光刻機是NA=0.33技術的，下代EUV光刻機則是提升到NA=0.55。

根據ASML公司高管日前透露的消息，NA=0.55的EUV光刻機今年底會出貨首個商用原型，2025年會正式量產。

他沒有公佈具體哪傢公司會首發NA=0.55光刻機，但之前英特爾公司表示他們會率先使用下代EUV光刻機，已經巨資提前下單。

按照2025年出貨的時間點來看，臺積電、英特爾、三星的2nm級別工藝是趕不上的，最快也要到1.4nm工藝才能用上NA=0.55光刻機，未來生產1nm工藝則是不可少的設備。

伴隨技術提升的還有售價，由於更加復雜、精密，NA=0.55的EUV光刻機價格大幅上漲，具體多少不確定，此前消息稱不低於4億美元，人民幣接近30億元瞭，是現在的2-3倍。

這還不排除未來正式商用的時候價格進一步上漲，畢竟還要好幾年才能上市。

來源：中國半導體論壇

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